高通量高真空双室磁控溅射沉积系统 ### 在采购意向: ################## 采购单位: ### 采购项目名称: 高通量高真空双室磁控溅射沉积系统 预算金额: ###.######万元(人民币) 采购品目: 采购需求概况: 高通量高真空双室磁控溅射沉积系统,#套,用于制备金属材料、陶瓷材料薄膜样品。包括直流溅射电源和射频溅射电源。具有精准气体流量控制器,能够实现多种气体控制精度。基台具有加热、自转等功能。靶位数量>#个。真空度最低##-#Pa。膜厚均匀性≤±#%。要求供货周期为合同签订后#个月,质保#年。 预计采购时间: ####-## 备注: 本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排, ### 和采购文件为准。
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